真空镀膜技术分类与设备要求

发布时间：2025-10-25

真空镀膜技术分为蒸发镀、溅射镀和化学气相沉积（CVD）。蒸发镀适用于铝、铬等低熔点金属，但膜层致密性较差；溅射镀通过离子轰击靶材，可沉积高熔点材料（如钛、锆），附着力更强；CVD则用于制备氮化钛（TiN）等硬质涂层。设备需满足高真空度（≤10⁻3 Pa）、温度均匀性（±5℃）等要求，且镀膜室需配备观察窗与挡板装置，以实时监控工艺参数。

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